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聯華電子今日(9日)與新世代IC效能與良率提昇解決方案供應商Extreme DATM公司共同宣佈,雙方將合作提供65奈米及以下製程之使用者,新一代具變量意識之IC設計流程。此流程能減少設計上的不確定性,並且可以在分析製程變異中的時序行為後,預測設計效能與良率。這項流程是以Extreme DA公司的GoldTM統計分析套組為基礎,目前已試用在聯華電子65奈米製程的測試晶片上。這項合作是之前雙方在90奈米製程合作的延伸。 目前雙方在65奈米製程的合作包括以下重點: 為分析通用與差異性變異的效果而進行聯華電子設計單元資料庫的產品特性分析
採用Location-based on-chip variation
(LOCV)模式結構以求較佳的精確性與變異分析
65奈米測試晶片上的變量意識擷取與時序分析
使用聯華電子經驗證的65奈米製程以及Extreme DA公司Gold套組生產IC的客戶,將能獲得參數良率的提昇與最佳化的效能,並降低pessimism。 “聯華電子持續投注心力,協助我們的客戶強化設計,使更能達到參數良率預測與最佳化的目標,”聯華電子設計技術運用副總經理錢達生表示。“Extreme DA公司的Gold統計分析套組在時序分析與晶片製程變異模型上充分展現其絕佳的功能。我們期待將這項設計流程的優勢提供給我們65奈米的客戶使用。” Extreme DA公司的執行長Mustafa Celik表示,“我們感到非常榮幸,能與聯華電子這樣世界頂尖的晶圓專工公司緊密合作,研發這項獨特的、具變量意識之設計時序流程,讓先進系統單晶片設計公司使用。我們預期這項設計流程能滿足無晶圓廠半導體公司對更快速且精確的時序收斂、以及較高的晶片良率的需求。” About The
Extreme Gold Statistical Suite About Extreme
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